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產品用途
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD系統配置；
1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（單獨購買）
產品特性;
電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
系統名稱 | 集成型PECVD系統 | 1200℃小型PECVD系統 |
系統型號 | PECVD-12IH-500A | PECVD-12IH-4Z/G |
控制方式 | 液晶屏微PLC控制系統 | 手動 |
極限溫度 | 1200℃ | |
加熱區長度 | 200mm | |
恒溫區長度 | 100mm | |
溫區 | 單溫區 | |
石英管管徑 | Φ60mm | Φ50mm |
額定功率 | 1.2Kw | 2Kw |
額定電壓 | 220V | |
滑動方式及距離 | 自動滑動;200mm | 手動滑動;200mm |
溫度控制 | 30段程序控溫 | 50段程序控溫 |
控制精度 | ±1℃ | |
爐管極限工作溫度 | ＜1200℃ | |
氣路法蘭 | 采用多環密封技術卡箍快速連接 | |
排風冷卻裝置 | 的空氣隔熱技術，結合熱感應技術，當爐體表面溫升到50℃時， 排溫風扇將自動啟動，使爐體表面快速降溫。 | |
氣體控制方式 | 質量流量計（按鍵式） | |
氣路數量 | 2路（2-4路） | 4路（可根據具體需要選配氣路數量） |
流量范圍 | 0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定 | |
精度 | ±1%F.S | |
響應時間 | 1sec | |
工作溫度（流量計） | 20-120℃ | |
工作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力） | |
進氣方式 | 采用防倒流設計 | |
規格 | 中真空（集成型請單獨購買） | |
系統真空范圍 | 10Pa-100Pa | |
真空泵 | 雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa，抽氣速率4L/S（選配：其他抽速真空泵）,出氣口配有油污過濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw | |
信號頻率 | 13.56MHz±0.005% | |
功率輸出范圍 | 0W-500W | 0W-100W |
大反射功率 | 350W | 30W |
射頻輸出接口 | 50Ω，N-type,temale | |
功率穩定度 | ±0.1% | |
諧波分量 | ≤-50dbc | |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ | |
整機功率 | ≥70% | |
屏幕顯示 | 正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值 | |
爐體外形尺寸 | 290×350×340mm | 290×350×495mm |
系統外形尺寸 | 420×1440×1100mm | 530×2310×750mm |
系統總重量 | 270Kg | |
