CVD系統(tǒng)

天津中環(huán)高真空CVD系統(tǒng)電爐是一家集研發(fā)、生產(chǎn)制造、營銷服務(wù)為一體的的實驗室電爐工作系統(tǒng)解決方案的提供者。作為實驗室電加熱設(shè)備的生產(chǎn)廠家，在實驗室電爐行業(yè)國內(nèi)市場一直保持著地位，并成為*品牌。

通過公司技術(shù)人員的開發(fā)，zui近研制出多套CVD系統(tǒng)，高真空CVD系統(tǒng)在碳納米材料，真空鍍膜領(lǐng)域廣泛使用，PE獲得客戶廣泛好評。

CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點：
1 CVD系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
2 CVD系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長
3 CVD系統(tǒng)使用計算機控制，可以設(shè)置多種生長參數(shù)
4 CVD系統(tǒng)可以制備高質(zhì)量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達數(shù)厘米，研究動力學(xué)過程
5 CVD系統(tǒng)沉積效率高；薄膜的成分可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數(shù)毫米，可以實現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

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